公司新聞
- 明導國際 Calibre的模型化平面流程符合TSMC的65與40奈米IC製程要求 2008-07-02
- 明導國際 Calibre LFD榮獲意法半導體選用於60和45奈米的微影變異分析 2008-06-12
- 聯華電子與明導國際共同推出針對混和訊號與射頻技術設計的晶圓專工設計套件 2008-05-30
- OVM兌現SystemVerilog最初的‘開放’承諾 2008-05-29
- 明導國際與聯華電子攜手以Calibre nmDRC完成UMC 65奈米實體驗證流程 2008-05-05
- 明導國際(Mentor Graphics)與聯華電子(UMC)提供類比混合訊號參考流程 2007-06-15
- Mentor Graphics推出突破性拓樸佈線技術徹底改變電路板設計的手動佈局流程 2006-09-25
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