公司新聞
August 2010
- Mentor Graphics(明導國際)EDA Tech Forum 2010 報名進入倒數階段！
July 2010
- Mentor Graphics (明導國際) EDA Tech Forum 2010
May 2010
- 明導國際 Veloce 仿效產品平台獲義法半導體採用以加速其新一代機上盒晶片組上市時機
- 明導國際力學分析軟體FloEFD™榮獲設計新聞頒發之2010年最佳產品獎
- Calibre InRoute讓你在實體設計過程中完成製造簽核(signoff)
- Mentor Graphics FloVENT v8上市 設計環境分析新功能嘉惠設計工程師
April 2010
- 明導國際的PCB組裝Valor MSS軟體套件又再榮獲2010 Vision大獎
- 明導國際的PCB組裝Valor MSS軟體套件榮獲新產品導入(NPI)大獎
March 2010
- 明導國際收購飛斯卡爾的Virtual Garage產品線以擴展汽車電子設計範疇
- 明導國際宣佈韓國Dongbu HiTek採用Eldo建置最佳化標準元件特性分析流程
- Mentor Graphics正式推出半導體封裝熱特性分析及設計的專家系統FloTHERM IC
- ASIA公司採用明導國際的CHS工具 顯著縮短複雜電路連線設計週期時間
February 2010
- 控創集團(Kontron AG)採用明導國際HyperLynx電源完整性解決方案
- 領先半導體供應商採用Calibre PERC進行設計檢查
January 2010
- 明導Calibre PERC 榮獲2009 Product of the Year Award的肯定
- 佳能(Canon)印度設計中心 全面改採明導OVM驗證方案
December 2009
- 明導擴大Questa多角度驗證元件資料庫以支援日益增加的協定標準
November 2009
- 明導國際提供德州儀器的OMAP35x處理器專屬最佳化Android開發系統
- 嶄新的明導國際Tessent YieldInsight產品 藉由測試故障資料的統計分析而提高IC良率
- 明導國際勾勒使矽晶片測試與良率分析一致的策略
October 2009
- 泰鼎微系统採用明導國際Veloce硬體模擬器加速新一代數位TV SoCs上市前置時間
- TSMC選擇Calibre實體驗證平台，運用於整合式Sign-off流程
September 2009
- 明導國際EDA Tech Forum成功吸睛 超過300名客戶及工程師參加盛會
August 2009
- UMC認證完整的Mentor Graphics 矽晶片測試方案
- 明導國際發表全新Calibre版本，運用TSMC導入具互通性的iDRC與iLVS格式
July 2009
- 明導國際完成在TSMC Reference Flow 10.0的
- 明導國際提供TSMC iPDKs支援
May 2009
- 明導國際提供完美的3D厚度變異平坦化充填的解決方案，克服密度與厚度的挑戰
April 2009
- 先進低功耗設計盡現Olympus-SoC佈局繞線平台中
- Cambridge Silicon Radio Limited成功部署Calibre DFM解決方案幫助帶動快速的製程移植
- 意法半導體採用明導國際Eldo模擬器執行32nm資料庫特性分析
February 2009
- 明導國際Olympus-SoC佈局繞線系統贏得2009 DesignVision大獎
- 明導國際inFact工具提供與OVM之間的隨插即用相互操作性
- 明導國際DFT工具榮獲意法半導體採用為先進IC測試解決方案
- 明導國際以優越的電源完整性分析 因應先進PCB系統設計挑戰
January 2009
- 明導推出結合Vista, Catapult C Synthesis 及ESL工具的Scalable TLM-2.0設計流程
December 2008
- 明導國際Olympus-SoC佈局繞線系統在40奈米製程上已獲台積電測試認可
November 2008
- 明導國際發表Nucleus Platform Media Player可快速提供多媒體應用軟體
- NEC公司將以明導的Calibre LVS 建立40奈米及以下IC設計的電路特性流程
- 明導的Eldo的多緒執行(Multi-threading)新功能讓模擬效能大躍進--
October 2008
- 明導國際佈局繞線技術大躍進 縮減設計工作時間至原來的四分之ㄧ
July 2008
- 明導國際 Calibre的模型化平面流程符合TSMC的65與40奈米IC製程要求
June 2008
- 明導國際 Calibre LFD榮獲意法半導體選用於60和45奈米的微影變異分析
May 2008
- 聯華電子與明導國際共同推出針對混和訊號與射頻技術設計的晶圓專工設計套件
- OVM兌現SystemVerilog最初的‘開放’承諾
- 明導國際與聯華電子攜手以Calibre nmDRC完成UMC 65奈米實體驗證流程
June 2007
- 明導國際(Mentor Graphics)與聯華電子(UMC)提供類比混合訊號參考流程
September 2006
- Mentor Graphics推出突破性拓樸佈線技術徹底改變電路板設計的手動佈局流程